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尼康推出浸润式 ArF 光刻机 NSR-S636E,时隔二十多年再发新品

发布时间:2023-12-07 14:25:08来源:
12 月 7 日消息,尼康官网宣布新闻稿,发布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。

从尼康官网参数表获悉,NSR-S636E 光刻机支撑 38nm 以下精度,吞吐量可达 280 片晶圆 / 小时。

据日经新闻此前报道,时隔二十多年,尼康将于 2024 年投放光刻机新产品,通过追求逆势开辟中国大陆市场,以实现卷土重来。

报道还称,尼康和佳能曾在 1990 年代之前主导市场,但在最尖端的极紫外(EUV)装备的开发竞争中败给了 ASML。极紫外光刻机在 2010 年后半期适用化,全世界只有 ASML 能够生产。另一方面,尼康的经营资源疏散在各种光源上,缺少强势领域。

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